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CVD管式爐是由哪些部件組成的?分別又有什么功能?

更新時間:2024-08-02瀏覽:369次

       近年來,隨著儀器行業(yè)的不斷發(fā)展,CVD管式爐在市場上得到了快速地發(fā)展。由于其突出的表現(xiàn),受到了廣泛用戶的青睞。目前本產(chǎn)品可以廣泛地應用于納米電子學、半導體、光電工程的研發(fā)、涂料等領域,下面我們就來具體的了解一下這款儀器!

  CVD管式爐與普通設備完整不同。此外,由于直接著火,任何走漏都可能招致爆炸或火災,這也是非消防設備無法比較的。 加熱式管式爐的爐管壁溫為400-650℃,加熱反響式管式爐(氫轉(zhuǎn)化爐)的壁溫常常在850-1000℃的范圍內(nèi)。高溫爐圈接受低工作壓力,如蒸餾爐,普通1-3mpa,高壓加氫爐,高達18-20mpa。

      

 CVD管式爐主要由高溫腔體、石英管、石英支架、氣路系統(tǒng)、分子泵機組、自動化控制系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)等組成。

  1、沉底材料可采用銅箔、石墨等;

  2、生長腔體采用進口高純石英管,配石英支架、為石墨烯等材料的生長提供潔凈環(huán)境;

  3、爐膛采用進口高純氧化鋁多晶體纖維,不易掉粉、壽命長且保溫性能好。加熱絲采用摻鉬鐵鉻鋁合金加熱絲,溫場均勻,能耗低;

  4、密封法蘭均采用不銹鋼材質(zhì),配水冷套,可連續(xù)長時間工作;

  5、氣路系統(tǒng)采用兩路質(zhì)量流量計(可拓展多路),配預混系統(tǒng);

  6、氣體種類: He/Ar、C2H2、NH3、N2, H2、PH3、GeH4、B2H6;

  7、溫度、氣體、真空、冷卻水等通過PLC控制,通過PC實時控制和顯示相關的實驗參數(shù),自動保存實驗參數(shù),也可采用手動控制;

  8、系統(tǒng)采用集成化設計,控制系統(tǒng)、混氣罐、質(zhì)量流量計等均內(nèi)置在箱體內(nèi)部,占地面積小。整體安裝四個可移動輪子,方便整體移動。

 

  好了!關于CVD管式爐結(jié)構(gòu)特點的講解,今天我們就說到這里,希望您看完有所收獲,后期我們也會陸續(xù)更新。


 

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